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       在光譜分析中，與其他的一切測(cè)量一樣建強保護，系統(tǒng)誤差的存在是不能允許的推進一步。我們研究光譜分析中的系統(tǒng)誤差認為，就是找出系統(tǒng)誤差的一般規(guī)律及其產(chǎn)生的原因集成，并且盡可能的分析出系統(tǒng)誤差的具體來源物聯與互聯，努力消除它的影響發行速度。而且對(duì)尚存在的系統(tǒng)誤差要估計(jì)出其值的大小更加堅強。因此，發(fā)現(xiàn)性能、減少或消除初步建立、估算系統(tǒng)誤差是處理系統(tǒng)誤差問題的關(guān)鍵所在。

       光譜分析中系統(tǒng)誤差的來源

       標(biāo)準(zhǔn)樣品與分析樣品性質(zhì)不相同將引起系統(tǒng)誤差供給。引起這一類系統(tǒng)誤差有下列情況

       1.金屬或合金的固體標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品的組織結(jié)構(gòu)不相同的方法。

       2.粉末法分析時(shí)，制備的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品在基體上或加入的物質(zhì)結(jié)構(gòu)上不相同進行探討。

       3.標(biāo)準(zhǔn)樣品與分析樣品在質(zhì)量落到實處、厚度和直徑上的差異，特別是在標(biāo)準(zhǔn)樣品或分析樣品有一方小于臨界值時(shí)最新，將引起蒸發(fā)和激發(fā)上的差異技術創新。

       4.標(biāo)準(zhǔn)樣品或控制樣品化學(xué)成分的不準(zhǔn)確，以及化學(xué)組成的均勻性不好重要作用。

       第三元素的影響將引起系統(tǒng)誤差持續向好。引起這一類系統(tǒng)誤差的情況有：

       1.除了基體和分析元素以外存在于標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品中的其他元素統(tǒng)稱為“第三元素”，第三元素的存在能引起樣品蒸發(fā)及激發(fā)的改變，也可能存在譜線的干擾進展情況。

       2.在標(biāo)準(zhǔn)樣品與分析樣品預(yù)處理中的元素污染的積極性，導(dǎo)致分析結(jié)果的偏離。

       3.使用代用標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行分析至關重要，這樣將造成分析樣品與標(biāo)準(zhǔn)樣品的化學(xué)組成相差較大不久前。

       分析方法引起的系統(tǒng)誤差。引起這一類系統(tǒng)誤差的情況有：

       1.分析方法理論的不完善提升行動，必將引進(jìn)系統(tǒng)誤差能力建設。

       2.儀器分析條件選擇不恰當(dāng)，是分析靈敏度降低或不穩(wěn)定研究進展。

       其他方面引起的系統(tǒng)誤差設計標準。