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來(lái)看看直讀光譜分析儀器的光源

發(fā)布時(shí)間:2021-08-19 09:38:29         點(diǎn)擊:4759

       直讀光譜分析儀中進行探討,光源是一個(gè)重要組成部分推動並實現,直流電弧是發(fā)射光譜分析中常用的一種光源高質量發展。它利用直流電在分析間隙發(fā)生電弧放電時(shí)產(chǎn)生的高溫來(lái)激發(fā)樣品的光譜更加完善。

       直流電弧發(fā)生器一般由引燃電路提供有力支撐、直流電源及控制調(diào)節(jié)電路等部分組成創造性。大多數(shù)廠(chǎng)商把直流電弧和交流電弧組裝在同--臺(tái)發(fā)生器中全面革新,本節(jié)主要介紹直流電弧的引燃、直流電弧的基本特性和應(yīng)用功能。

       在一般光譜分析時(shí)應用的因素之一,分析間隙為2mm左右,直流電弧所用的直流電源的電壓一般為幾百伏預期,這一電壓不能直接擊穿分析間隙而產(chǎn)生電弧敢於監督,因此要獲得直流放電幅度,必須首先引燃電弧。直流電弧一般采用高頻火花引燃重要的作用。

直流電弧的引燃

直流電弧的引燃

       直流電弧的優(yōu)點(diǎn)

       ①檢出限低貢獻。這是直流電弧的主要優(yōu)點(diǎn),尤其在大電流時(shí)各方面,電極頭溫度高,試樣被大量蒸發(fā)成效與經驗,光輻射強(qiáng)適應性,因此常被用來(lái)作痕量元素的定性和定量分析。

       ②背景小稍有不慎。在直流電弧光譜中重要作用,除用石墨電極時(shí),在350nm以上的波段部分產(chǎn)生氰(CN)帶光譜外最為顯著,在發(fā)射光譜分析常用的波段(230~350nm)內(nèi)背景較小尤為突出,有利于譜線(xiàn)強(qiáng)度弱的痕量元素的分析。

       ③可以適用于各種類(lèi)型試樣的分析環境。固體金屬空間載體、金屬屑、不導(dǎo)電的粉末等都可以用直流電弧分析相對簡便,而且由于電極頭溫度高重要組成部分,可以局部破壞試樣的結(jié)構(gòu),以消除試樣結(jié)構(gòu)對(duì)分析結(jié)果的影響表現。

       ④結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單特點。并且可以激發(fā)大約70種元素的光譜。

直讀光譜儀的激發(fā)臺(tái)

直讀光譜儀的激發(fā)臺(tái)

       直流電弧的缺點(diǎn)

       ①電弧的穩(wěn)定性差結論,并且燃弧點(diǎn)游移不定和諧共生,因而分析的再現(xiàn)性差,只適于定性分析和痕量元素的定量分析適應性強。

       ②弧柱的電子溫度較低技術交流,激發(fā)能力弱,不能激發(fā)電離電位高和激發(fā)電位較高的元素的譜線(xiàn)拓展。

       ③電極頭溫度高在此基礎上,不宜直接作低熔點(diǎn)金屬及合金的分析。對(duì)這一-類(lèi)材料前來體驗,可以采用間歇整流電弧分析自主研發。
 

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