國內(nèi)市場部
0510-83205379
24小時服務(wù)
國際貿(mào)易部
0510-68795132 15106177808
傳 真:0510-83213469
E-mail:wuxi@chxyq.com
地 址:江蘇省無錫市濱湖區(qū)梁通路19號免費(fèi)咨詢熱線:
400-0833-980
直讀光譜儀器基本參數(shù)特性發揮重要作用?
發(fā)布時間:2020-10-14 11:39:58 點擊:5246
一宣講手段、工作光譜范圍
指使用光譜分析儀器所能記錄的光譜范圍。它主要決定于儀器中光學(xué)零件的光譜透射率或反射率積極拓展新的領域、以及所采用的探測系統(tǒng)的光譜靈敏度界限配套設備。例如,玻璃棱鏡光譜儀的工作光譜范圍為400nm~1000nm(實際可達(dá)到2.5μm),大于1000nm的波長范圍應(yīng)用紅外晶體材料制造光學(xué)零件相對開放,小于400nm的波長范圍要用石英或熒石來制造光學(xué)零件推進高水平。改變光柵表面反射膜層的光譜反射率,反射式光柵可以用在整個光學(xué)光譜區(qū)深入交流研討。光電倍增管的光譜靈敏度界限只能達(dá)到850nm左右資料,紅外波段則要求改用熱電元件作為接收器廣泛應用。
二關註度、色散率
對于經(jīng)典的光譜儀器,色散率表明從光譜儀器色散系統(tǒng)中射出的不同波長的光線在空間彼此分開的程度哪些領域,或者會聚到焦平面上時彼此分開的距離敢於挑戰。前者可用角色散率表述,后者用線色散率表述求索。
1讓人糾結、角色散率
表明二不同波長的光線彼此分開的角距離,定義為d0/d。do為二不同波長的光線經(jīng)色散系統(tǒng)后的偏向角之差; dλ為二光線的波長差穩定發展。角色散率的單位是rad/nm基石之一。角色散率的大小主要決定于色散系統(tǒng)的幾何尺寸和它在儀器中的安放位置。
2.線色散率
表明不同波長的二條譜線在成像系統(tǒng)焦平面上彼此分開的距離增持能力,定義為l/A共同努力。l為兩條不同波長的譜線之間的距離;A為兩條譜線的波長差。
線色散率的單位是mm/nm追求卓越。在實用中逐漸完善,有時為了方便也可用上述數(shù)值的倒數(shù)來表示參與能力,稱為線色散率倒數(shù),A/l是目前主流。線色散率倒數(shù)的單位為nm/ mm充分發揮。
光譜儀器的線色散率不僅與色散元件的角色散率成正比,而且與成像物鏡的焦距成正比充分發揮,與焦平面的傾斜角E的正弦成反比選擇適用。目前各國生產(chǎn)的小型和中型光譜儀的線色散率倒數(shù)約為(10~ 1 )nm/mm,大型光譜儀的線色散率倒數(shù)約為(1~0.1)nm/mm。法布里一珀羅干涉光譜儀的線色散率倒數(shù)可達(dá)(0.01~0.001)nm/mm,甚至更大設計。
三交流、分辨率
分辨率是表明光譜儀器分開波長極為接近的二條譜線的能力,這是光譜儀器極為重要的性能指標(biāo)提供堅實支撐。
兩條光譜線能否被分辨還不大,不僅決定于儀器的色散率,而且還和這兩條譜線的強(qiáng)度分布輪廓及其相對位置有關(guān)信息化技術,也與接收系統(tǒng)有關(guān)發揮作用。光譜線的強(qiáng)度分布輪廓是一個復(fù)雜的函數(shù),它與譜線的真實輪廓逐步顯現、儀器的色散系統(tǒng)銘記囑托、所用狹縫的寬度、入射狹縫的照明情況及光學(xué)系統(tǒng)的像差等因素有密切的關(guān)系自動化裝置。
由于實際分辨率的問題很復(fù)雜示範,通常用瑞利(Rayliegh)提出的僅考慮衍射現(xiàn)象的分辨率一理論分辨率加以討論。
瑞利認(rèn)為有很大提升空間,當(dāng)兩條強(qiáng)度分布輪槨相同的譜線的最大值和最小值相重疊時提供了有力支撐,它們能夠分辨,如圖2-5所示前景。瑞利準(zhǔn)則有兩條前提:①假設(shè)有兩條譜線通過光譜儀器后進一步意見,其強(qiáng)度分布輪廓完全相同;②假設(shè)接收器的靈敏度大于或等于20%共享應用。這個假設(shè)接近于人眼的靈敏度生產能力。事實上,人眼的靈敏度為10% ~20%,感光板的靈敏度為5%,而光電接收器一般小于5%示範推廣。一二譜線的平均波長堅持好。
實驗證明,瑞利準(zhǔn)則是要求過嚴(yán)的大幅增加,但直到現(xiàn)在仍沿用著特性。在設(shè)計計算中可根據(jù)使用要求提出實際的分辨率,而后按經(jīng)驗乘以一定的放大系數(shù)交流研討,得出要求的理論分辨率作為確定色散系統(tǒng)的起始數(shù)據(jù)更加完善。在棱鏡或光柵光譜儀器中形式,一般都采用矩形孔徑光闌。
上一篇:正確判斷直讀光譜分析結(jié)果偏差問題 下一篇:XRF熒光光譜儀器的進(jìn)展及發(fā)展趨勢