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在光電光譜分析中，工作曲線的斜率是很重要的，較高的斜率機構，對提高分析準確度是有利的再獲。為了要保持分析條件的一致責任，保證分析的準確度∠冗M水平，F(xiàn)從以下幾個方面的原因敘述分析精度：

分析精度受如下因素影響前來體驗。

1．分光系統(tǒng)的信／噪比要大機製性梗阻。

2．激發(fā)光源的激發(fā)穩(wěn)定性有關(guān)機製。

3．試樣元素的分布均勻性有關(guān)。

4．儀器本身的安裝生產效率、調(diào)試的正確堅持先行。

5．共存元素的差別和它們之間的干擾。

6．標樣與分析試樣品之間狀態(tài)差別滿意度。

7．基體元素的沖淡效應(yīng)情況較常見。

直讀光譜分析

誤差主要原因：

1．氬氣不純：當氬氣中含有氧和水蒸汽時，使激發(fā)斑點變壞主要抓手。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去體製，或有濁漏時，分析結(jié)果變差創新科技。

2．試樣要求表面平整服務延伸，當試樣放在電極架上時共創輝煌，不能有漏氣現(xiàn)象。如有漏氣進一步，激發(fā)試樣的聲音不正常大部分。激發(fā)斑點變白。

3．分析樣品與控制標樣的磨紋粗細要一致實際需求，不可有交叉紋解決方案，磨樣用力不要過大，而且用力要均勻善謀新篇，要力求操作一致增產，用力過大，容易造成試料表面氧化方法。

4．對高鎳鉻鋼磨樣時行動力，要使用新砂輪片磨樣。磨紋操作更加要求嚴格切實把製度。

5．試樣不能有偏析保供、裂紋、氣孔等缺陷協同控製，試料要有一定代表性振奮起來。

6．W電極的頂尖應(yīng)當具有一定角度使光軸不得偏離中心。放電間隙應(yīng)當保持不變利用好，否則聚焦在分光儀的譜線強度會改變深入各系統。重復(fù)放電以后，W電極會長尖系列，改變間隙放電距離作用。激發(fā)產(chǎn)生的金屬蒸汽會污染激發(fā)。所以必須激發(fā)一次后就要用刷子清理電極統籌推進。

7．透鏡內(nèi)表面用來保持真空方案，常常受到來自真空泵油蒸汽的污染：外表面受到分析時產(chǎn)生金屬蒸汽的附著。使透過率明顯的降低了解情況，對≤200nm的碳深入、硫、磷譜線的透過率很顯著降低重要的，工作曲線的斜率降低開展研究，所以聚光鏡要進行定期清理。

8．真空度不夠會降低分析靈敏度相互融合，特別是≤200nm波長更明顯首要任務，為此要求真空度達到5X10-2mm／Hg

9．出射狹縫的位置變化受溫度的影響最大，因此保持分光室內(nèi)的恒溫系統(tǒng)32C±0．1C很重要還要求室內(nèi)保持溫度一致，使出射狹縫很難偏離發展。

10．電源電壓變化容易引起激發(fā)單元的放電電壓的改變保持穩定，電源電壓要求10％以內(nèi)。

11．溫度和濕度的變化面向。室內(nèi)溫度的增加會增加光電倍增管的暗電流支撐作用、降低信／噪比。濕度大容易產(chǎn)生高壓元件的漏電效率、放電現(xiàn)象規模，使分析結(jié)果產(chǎn)生不穩(wěn)定。