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       對于痕量檢測積極參與，你了解多少深入各系統？痕量檢測（trace analysis）豐富內涵，是一種對樣品中待測組分含量低于百萬分之一的分析方法集聚效應。適合進行痕量檢測的儀器都有哪些技術創新？

       目前向好態勢，用于痕量物質(zhì)檢測的儀器主要有原子吸收分析儀（AAS）、石墨爐原子吸收分析儀（GF-AAS）文化價值、電感耦合高頻等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-AES）發展空間、電感耦合高頻等離子質(zhì)譜儀（ ICP-MS）效果、波長色散（WDXRF）和能量色散（EDXRF）X射線熒光光譜分析儀有所應。可做痕量檢測的以上幾種儀器合作關系，在分析痕量物質(zhì)時也有各自的優(yōu)勢著力提升，一般單位會根據(jù)自己需求進行選擇。

       AAS分析儀使用成本低傳遞，對專業(yè)技術(shù)要求低融合，光譜干擾少。但人工調(diào)試項目多，當基體成分復(fù)雜時完成的事情，測試精度低物聯與互聯。GF-AAS分析儀常規(guī)工作可無人自動操作，光譜干擾少改造層面，基體干擾多供給，樣品需能完全氣化。ICP-AES分析能力強經驗分享，溶液分析精度高解決方案，基體干擾少，可測元素多有力扭轉，但該儀器只能檢測溶液上高質量。ICP-MS儀測試精度高，分析能力較前者更強廣度和深度，能進行同位素分析深入交流，樣品也需制成溶液。ICP儀都能進行半定量分析加強宣傳，但當測試高濃度物質(zhì)時需稀釋溶液雙向互動，再折算到原樣品濃度的含量，ICP的測試誤差被同時放大設計能力，這大大降低了測試精度品牌。但對于工廠的大規(guī)模生產(chǎn)而言，以上這些儀器因為制樣周期長更為一致，并不適合等形式。

X熒光光譜儀與ICP光譜儀

       WDXRF 和EDXRF儀測試精度較ICP低一些，分析能力較ICP強一些研究與應用，但它可直接對塊狀相貫通、液體、粉末樣品進行測試積極影響，亦可對小區(qū)域進行分析自動化方案，還可分析鍍層和薄膜，樣品制備簡單越來越重要，分析時間短線上線下，分析精度能滿足工廠生產(chǎn)的需要，很合適工廠大規(guī)模生產(chǎn)醒悟。它的弱點是存在光譜干擾數據顯示，特別是樣品中同時存在光譜干擾的幾個元素時，XRF就很難辯別這幾個元素也逐步提升。